Hans von Känel obtained his Ph.D. in natural sciences from the ETH in Zürich, Switzerland, in 1978. His major fields of study have been low-dimensional magnetism, liquid crystals, semiconductor photoelectro-chemistry, epitaxial interfaces and surfaces, scanning probe techniques, and epitaxial growth. He was a Post-doctoral Associate at MIT in Cambridge, Massachusetts, USA, from 1979 to 1981, and the leader of the semiconductor electrochemistry and Si heterostructures groups at the ETH in Zürich from 1981 to 2002, where he invented the technique of low-energy plasma-enhanced chemical vapor deposition (LEPECVD).
De 2002 à 2007, il a été professeur ordinaire de physique au Politecnico di Milano. Pendant cette période, il a créé et dirigé le laboratoire pour les hétéro et nanostructures semi-conductrices du L-NESS, situé à Côme. Le L-NESS est un centre de recherche conjoint du Politecnico di Milano et de l'Université de Milano Bicocca fondé en 2002. De 2003 à 2010, il a été le directeur technique de la société EpiSpeed, une spin-off de l'ETH. Il est co-auteur de plus de 350 publications scientifiques et de 15 demandes de brevet.
