Hans von Känel obtained his Ph.D. in natural sciences from the ETH in Zürich, Switzerland, in 1978. His major fields of study have been low-dimensional magnetism, liquid crystals, semiconductor photoelectro-chemistry, epitaxial interfaces and surfaces, scanning probe techniques, and epitaxial growth. He was a Post-doctoral Associate at MIT in Cambridge, Massachusetts, USA, from 1979 to 1981, and the leader of the semiconductor electrochemistry and Si heterostructures groups at the ETH in Zürich from 1981 to 2002, where he invented the technique of low-energy plasma-enhanced chemical vapor deposition (LEPECVD).
2002년부터 2007년까지 그는 Politecnico di Milano의 일반 물리학 교수였습니다. 이 기간 동안 그는 Como에 위치한 L-NESS에 반도체 이종 및 나노구조 연구소를 설립하고 지휘했습니다. L-NESS는 Politecnico di Milano와 2002년에 설립된 University of Milano Bicocca의 공동 연구 센터입니다. 2003년부터 2010년까지 그는 ETH 분사 회사인 EpiSpeed의 CTO였습니다. 그는 350개 이상의 과학 간행물과 15개의 특허 출원을 공동 저술했습니다.
