Dr. Hans von Känel

Dr. Hans von Känel

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Biographie

Hans a obtenu son doctorat en sciences naturelles à l'ETH de Zürich, en Suisse, en 1978. Ses principaux domaines d'étude ont été le magnétisme de faible dimension, les cristaux liquides, la photoélectrochimie des semi-conducteurs, les interfaces et les surfaces épitaxiales, les techniques de sonde à balayage et la croissance épitaxiale. Il a été associé post-doctoral au MIT à Cambridge, Massachusetts, États-Unis, de 1979 à 1981, et chef des groupes d'électrochimie des semi-conducteurs et d'hétérostructures de Si à l'ETH de Zurich de 1981 à 2002, où il a inventé la technique de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à basse énergie (LEPECVD).

De 2002 à 2007, il a été professeur ordinaire de physique au Politecnico di Milano. Pendant cette période, il a créé et dirigé le laboratoire pour les hétéro et nanostructures semi-conductrices du L-NESS, situé à Côme. Le L-NESS est un centre de recherche conjoint du Politecnico di Milano et de l'Université de Milano Bicocca fondé en 2002. De 2003 à 2010, il a été le directeur technique de la société EpiSpeed, une spin-off de l'ETH. Il est co-auteur de plus de 350 publications scientifiques et de 15 demandes de brevet.